Аннотация: Настоящее изобретение раскрывает метод модификации поверхности ультратонкого алмазного порошка, который включает в себя следующие шаги: 1) смешивание и перемешивание сверхтонкого алмазного порошка и диспергатор, И затем разделение твердых жидкостей для фильтрации и удаления примесей; 2) Шаг 1) Полученный ультра-тонкий алмазный Микропорошок влажный материал высушивается потоковой сушкой для получения поверхностно модифицированного ультратонкого алмазного микропорошка. После изменения методом модификации поверхности настоящего изобретения, сверхтонкий Микропорошок алмаза может быть не только стабильно рассеян в водной системе, но также подходит для полировки высокоточных продуктов, таких как Полупроводники и оптические линзы, и имеет чрезвычайно высокую эффективность полировки и хорошее качество полировки. После полировки нет царапин, которые могут избежать повреждения полированной заготовки и могут удовлетворить требования современной высокоточной технологии производства
Основная претензия:
1. Метод модификации поверхности ультратонкого алмазного микропорошка, характеризуется тем, что включает в себя следующие шаги: 1) ультратонкие алмазные микропорошки и диспергаторные растворы смешиваются и перемешиваются, затем проводится разделение твердых жидкостей для фильтрации и удаления примесей; 2) высушить Сверхтонкий Алмазный Микропорошок влажный материал, полученный в Шаге 1) Путем сушки потока для получения поверхностного модифицированного ультратонкого алмазного микропорошка.
2. Метод модификации поверхности ультратонкого алмазного микропорошка в соответствии с п. 1 характеризуется тем, что в Шаге 1) диспергатор описанного диспергатора выбирается из лаурилсульфата натрия, додецилбензол один или несколько сульфоната натрия и полиэтиленгликоля 2000, и растворитель является деионизированной водой.
3. Метод модификации поверхности ультратонкого алмазного микропорошка в соответствии с претензией 2 характеризуется тем, что, описанным диспергатором является додецилсульфат натрия, сульфонат натрия и ПОЛИЭТИЛЕНГЛИКОЛЬ 2000, молярное соотношение между тремя составляет 1:0.15-0,25: 0,45-0,55.
4. Метод поверхностной модификации ультратонкого алмазного микропорошка по п. 1, отличающийся тем, что в Шаге 1) молярная концентрация диспергаторного раствора составляет 0,002-0.008mol/L.
5. Метод модификации поверхности ультратонкого алмазного микропорошка согласно п. 1, характеризуется тем, что, шаг 1), в описанном диспергаторном растворе, массовое соотношение диспергатора и ультратонкого алмазного микропорошка составляет 1/1000-5 /1000.
6. Метод модификации поверхности ультратонкого алмазного микропорошка согласно п. 1, характеризуется тем, что, шаг 1), время смешивания и перемешивания составляет 30-60 минут.
7. Метод поверхностной модификации ультратонкого алмазного микропорошка по п. 1, в котором в шаге 2), метод сушки потока заключается в использовании дисковой сушилки для сушки.
8. Метод поверхностной модификации ультратонкого алмазного микропорошка по п. 1, в котором в шаге 2) температура сушки составляет 100-150 °C.